问题标题:
锗是重要的半导体材料,应用于航空航天测控、光纤通讯等领域.一种提纯二氧化锗粗品(主要含GeO2、As2O3)的工艺如图:已知:①“碱浸”过程中的反应为:GeO2+2NaOH=Na2GeO3+H2O.As2O3+2NaOH=2Na
问题描述:
锗是重要的半导体材料,应用于航空航天测控、光纤通讯等领域.一种提纯二氧化锗粗品(主要含GeO2、As2
O3)的工艺如图:
已知:
①“碱浸”过程中的反应为:GeO2+2NaOH=Na2GeO3+H2O.As2O3+2NaOH=2NaAsO2+H2O
②“蒸馏”过程中的反应为:Na2GeO3+6HCl=2NaCl+GeCl4+3H2O
③GeCl4的熔点为-49.5℃,AsCl3与GeCl4的沸点分别为130.2℃、84℃.
(1)锗的原子序数为32,锗在元素周期表中的位置为第___周期___族.
(2)“氧化除砷”的过程是将NaAsO2氧化为Na3AsO4,其反应方程式为:___.
(3)传统的提纯方法是将粗品直接加入盐酸中蒸馏,其缺点是___.
(4)工业上与蒸馏操作相关的设备有___.
A、蒸馏釜 B、离心萃取机 C、冷凝塔 D、加压过滤机
(5)“水解”操作时发生的化学反应方程式为___,“水解”操作时保持较低温度有利于提高产率,其最可能的原因是___(答一条即可).
(6)若1吨二氧化锗粗品(含杂质30%)经提纯得0.745吨的高纯二氧化锗产品,则杂质脱除率为___.
任永堂回答:
二氧化锗粗品(主要含GeO2、As2O3)中加入NaOH溶液碱浸,发生的反应为GeO2+2NaOH═Na2GeO3+H2O、As2O3+2NaOH═2NaAsO2+H2O,向溶液中加入NaClO3氧化除砷,发生的反应为3NaAsO2+NaClO3+6 NaOH=3 Na3AsO4+NaCl+3H2O...
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