问题标题：
【三氢甲硅烷制取高纯硅.高纯硅可以制备硅半导体,三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是制取高纯硅的主要方法,生产过程大体如下石英砂通过“焦炭”“高温”得到粗硅再通过“300℃以上”“HCl”】
问题描述：
三氢甲硅烷制取高纯硅.
高纯硅可以制备硅半导体,三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是制取高纯硅的主要方法,生产过程大体如下石英砂通过“焦炭”“高温”得到粗硅再通过“300℃以上”“HCl”得到粗的SiHCl3通过“精馏”得到纯的SiHCl3通过“H2”“1084℃”得到高纯硅和物质A1,.过程中必须要无水无氧,在用氢气还原SiHCl3中若混入氧气可能引起的后果是______、________2.A在过程中可以循环使用A的化学式是______还有一种可以循环的物质是_______第二问的第二个空详细理由说下.谢.
黄达尧回答：
氢气,因为HCl与粗硅反应时有氢气生成
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